導(dǎo)航
信息摘要：
大塚電子（蘇州）有限公司
展位號(hào)：2B29
作為世界500強(qiáng)企業(yè)之一的大冢集團(tuán)，其旗下日本大塚電子集團(tuán)的子公司大塚電子（蘇州）有限公司以“多樣性”、“創(chuàng)新性”和“全球化”作為基本方針，并融合了自公司成立以來(lái)積累的核心技術(shù)，為用于光學(xué)特性測(cè)試的測(cè)量?jī)x器、分析儀器提供從銷售到售后的全面服務(wù)支持，包括偏光片測(cè)試儀、位相差測(cè)試儀、液晶Cellgap測(cè)試儀、ColorFilter色度機(jī)、膜厚測(cè)試儀、透過(guò)率測(cè)試儀、反射率測(cè)試儀、納米粒度儀等，可以滿足納米技術(shù)、高分子化學(xué)、新材料、食品、半導(dǎo)體和醫(yī)藥等諸多領(lǐng)域從研發(fā)到質(zhì)量管理各方面的需求，擁有精度高、測(cè)試快、操作簡(jiǎn)便、市場(chǎng)占有率高、客戶群體廣的特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)。
01、顯微分光膜厚儀 OPTM series
產(chǎn)品介紹：
非接觸、非破壞式，量測(cè)頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對(duì)反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
單點(diǎn)對(duì)焦加量測(cè)在1秒內(nèi)完成
顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
獨(dú)立測(cè)試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求
最小對(duì)應(yīng)spot約3μm
獨(dú)家專利可針對(duì)超薄膜解析nk
02、光波動(dòng)場(chǎng)三次元顯微鏡 MINUK
產(chǎn)品介紹：
MINUK可評(píng)價(jià)nｍ級(jí)的透明的異物?缺陷，一次拍照即可瞬時(shí)獲得深度方向的信息，可非破壞?非接觸?非侵入的進(jìn)行測(cè)量。
且無(wú)需對(duì)焦，可在任意的面進(jìn)行高速掃描,輕松決定測(cè)量位置。
通過(guò)一次拍照即可獲取深度方向的信息，可以將透明薄膜表面上肉眼不可見(jiàn)的劃痕和缺陷的橫截面形狀數(shù)值化實(shí)現(xiàn)可視化。
DIC EXPO
DIC EXPO國(guó)際(上海)顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展,致力于向高附加值應(yīng)用行業(yè)展示薄膜與膠帶及涂布模切領(lǐng)域的創(chuàng)新解決方案,并促進(jìn)了上下游企業(yè)高效鏈接,挖掘潛在商機(jī),推動(dòng)產(chǎn)業(yè)可持續(xù)發(fā)展。為薄膜與膠帶企業(yè)打造精準(zhǔn)高效的供需對(duì)接與技術(shù)交流平臺(tái)。本屆展會(huì)將于2025年8月7-9日在上海新國(guó)際博覽中心舉辦,同期舉辦IFTE國(guó)際(上海)薄膜與膠帶技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展。展會(huì)預(yù)計(jì)將吸引300余家參展商及品牌集中展示前沿技術(shù)產(chǎn)品及應(yīng)用解決方案,聚焦功能膜材、膠粘新材、模切涂布等領(lǐng)域。
展會(huì)位置如上歡迎蒞臨指導(dǎo)
